多靶磁控濺射鍍膜設備

可實驗膜層種類

1.用于開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層；

2.用于制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜、介質膜、摻雜膜、超導膜、等，例：金、銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；

3. 可用于多靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射；